• XIAN XIWUER ELECTRONIC AND INFO. CO., LTD
    Richard
    « XIWUER est très innovateur. Ils ont fourni l'excellent, intuitif service, pensant à l'avenir dans l'avenir quant derrière à ce que nous pourrions avoir besoin. »
  • XIAN XIWUER ELECTRONIC AND INFO. CO., LTD
    Mike
    Le « dévouement de XIWUER à concevoir différentes caractéristiques pour répondre à nos exigences de traitement rigoureuses est un testament à nos années de recherche et développement. »
  • XIAN XIWUER ELECTRONIC AND INFO. CO., LTD
    Mariez
    « XIWUER a des capacités impressionnantes de recherches et démontre de bonnes capacités de prototypage et qualité du produit élevée. »
Personne à contacter : Wang Hong

Condensateur Doorknob Haute Tension à Faible Dissipation avec Haute Tension de Tenue et Résistance d'Isolement pour Alimentation RF

Lieu d'origine XIAN, SHANNXI CHINE
Nom de marque XIWUER
Certification ISO9001,ISO14001,OHSAS18001
Numéro de modèle CT8-1-40KV-150PF
Quantité de commande min 1 morceau
Prix Négociable
Détails d'emballage Carton
Délai de livraison 10-15 jours
Conditions de paiement L / C, T / T
Capacité d'approvisionnement 4 000 000 PCs par année

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Condensateur Doorknob Haute Tension à Faible Dissipation

,

Condensateur Haute Tension de Tenue pour Alimentation RF

,

Condensateur Doorknob Haute Tension avec Haute Résistance d'Isolement

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Description de produit
Condensateurs Doorknob Haute Tension pour Alimentation RF
Spécifications Techniques
Spécification Dissipation Tension de tenue Résistance d'isolement Dimensions (mm)
1 20kV-2000pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:45 | H:19 | L:23 | D:12 | M:5
2 20kV-10000pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:65 | H:15 | L:19 | D:12 | M:5
3 20kV-18000pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:80 | H:17 | L:25 | D:12 | M:5
4 30kV-1000pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:45 | H:24 | L:32 | D:12 | M:4
5 30kV-2700pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:60 | H:20 | L:28 | D:12 | M:4
6 30kV-12000pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:45 | H:19 | L:23 | D:12 | M:5
7 40kV-150pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:74 | H:18 | L:26 | D:12 | M:5
8 40kV-500pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:28 | H:33 | L:41 | D:8 | M:4
9 40kV-7500pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:80 | H:24 | L:29 | D:12 | M:6
10 40kV-10000pF ≤0.0040 1.5Ur● 1min ≥1.0 x 105 D:80 | H:22 | L:26 | D:16 | M:5
Application dans les équipements PECVD
Nos condensateurs doorknob haute tension fournissent une haute tension stable pour les équipements de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD), essentiels pour les industries des semi-conducteurs, du photovoltaïque et des revêtements optiques. Ces condensateurs permettent le dépôt à basse température de couches minces de haute qualité en maintenant un plasma stable et uniforme grâce à des performances efficaces de l'alimentation RF.
Défis techniques relevés
  • Adaptation d'impédance : Couplage de puissance efficace aux charges de plasma en constante évolution
  • Gestion de la puissance RF élevée : Résiste aux contraintes électriques dues à la haute fréquence et à la haute tension
  • Gestion thermique : Minimise l'accumulation de chaleur due aux pertes diélectriques et aux pertes des électrodes
  • Stabilité à long terme : Empêche la dérive de la capacité qui affecte le taux de dépôt et la qualité du film
Solution : Condensateurs Doorknob à Q élevé et à faible ESR
  • Transfert de puissance efficace : Faible ESR minimise la génération de chaleur avec des courants RF élevés
  • Stabilité thermique : Le diélectrique céramique à compensation de température maintient une capacité stable
  • Haute fiabilité : La construction robuste assure une longue durée de vie dans des conditions RF exigeantes
Avantages client
  • Amélioration de la qualité et de la cohérence du film grâce à une adaptation d'impédance stable
  • Productivité et rendement accrus grâce à la réduction des interruptions de processus
  • Réduction des coûts d'exploitation grâce à la réduction de la consommation d'énergie et de la maintenance
Nos condensateurs doorknob haute tension servent d'« harmoniseur d'impédance » pour les équipements PECVD, permettant un dépôt précis au niveau atomique pour une production de couches minces supérieure.